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本产品不涉及投顾咨询或投资顾问服务，所展示的信息不构成投资建议，信息仅供参考，历史数据不代表未来收益。
任何指标、策略或模型均存在局限性，请投资者根据不同的行情合理运用。数据力求准确但不保证，历史数据不代表未来收益。投资有风险，入市须谨慎。
报告期： 2024-12-31（发布日期：2025-01-21）
类型：预增
内容：营业收入变动47.88%至55.27%
原因： 预计2024-01-01至2024-12-31营业收入为400000万元至420000万元;与上年同期相比变动129502.6万元至149502.6万元;同比变动47.88%至55.27%。上年同期营业收入金额为270497.4万元。 业绩预告原因说明: 公司预计2024年年度营业收入较上年同期有较大增幅,主要原因如下: 1、面向国内集成电路行业快速发展带来的机遇,公司作为国内高端半导体设备领域的领军企业,继续专注于薄膜沉积设备和混合键合设备的自主研发与产业化,凭借在产品技术创新、客户资源、售后服务等方面的核心竞争优势,PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD(FlowableCVD)及混合键合设备等系列产品量产规模不断扩大,持续获得客户订单,公司业务规模呈现快速增长趋势。2024年度,公司出货超过1,000个设备反应腔,创公司历史年度新高。 2、2024年度,公司持续保持高强度的研发投入,坚持自主创新,在推进新产品研发、产品产业化和各产品系列迭代升级的过程中取得了重要成果,包括FlowableCVD设备、PECVDBianca工艺设备、PE-ALDSiN工艺设备、HDPCVDFSG、HDPCVDSTI工艺设备、键合套准精度量测设备等一系列新产品及新工艺经下游用户验证导入,实现了产业化,同时,新型设备平台PF-300M、PF-300TPlus及新型反应腔Supra-DACHM、ONOStack等工艺设备顺利通过客户验证,并取得客户重复订单,实现大批量出货,进一步提升了公司产品性能及核心竞争力,助力公司收入稳步增长。
注：年度后标E表示为预测业绩，预测市盈率当前股价与机构盈利预测业绩之比。
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