扫一扫 下载APP
您的好友都在分享，他们都已领到红包！
微信扫码分享好友或朋友圈
今开
昨收
最高
最低
成交额
成交量
换手率：
风险回报率：
总股本：
--流通股：
--总市值：
--流通值：
--每股收益(0)：
--每股净资产：
--市盈(动)：
市净率：
9:30
10:30
11:30/13:00
14:00
15:00
本产品不涉及投顾咨询或投资顾问服务，所展示的信息不构成投资建议，信息仅供参考，历史数据不代表未来收益。
任何指标、策略或模型均存在局限性，请投资者根据不同的行情合理运用。数据力求准确但不保证，历史数据不代表未来收益。投资有风险，入市须谨慎。
报告期： 2024-12-31（发布日期：2025-01-15）
类型：预增
内容：扣除非经常性损益的净利润变动7.43%至20.02%
原因： 预计2024-01-01至2024-12-31归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润为12.8亿元至14.3亿元;与上年同期相比变动0.89亿元至2.39亿元;同比变动7.43%至20.02%。上年同期归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润金额为11.91亿元。 业绩预告原因说明: 公司2024年度业绩预计较上年同期变化的主要原因如下: 1.公司主营产品的刻蚀设备、薄膜设备是半导体前道关键核心设备,市场空间广阔,技术壁垒较高。公司的刻蚀设备及薄膜设备持续获得众多客户的认可,针对芯片制造中关键工艺的高端产品新增付运量及销售额显著提升。 公司始终强调技术创新并保持高强度的研发投入。目前在研项目涵盖六类设备,超二十款新设备的开发。公司在新产品开发方面取得了显著成效,近两年新开发的LPCVD薄膜设备和ALD薄膜设备,目前已有多款新型设备产品进入市场并获得重复性订单。其中,LPCVD薄膜设备累计出货量已突破100个反应台,其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进;公司EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段。 公司在Micro-LED和高端显示领域的MOCVD设备开发上取得了良好进展,并积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场。 公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港的约18万平方米的生产和研发基地已经投入使用,支持了公司产品付运及销售快速增长的达成。同时公司生产运营管理水平不断提升,产品成本、运营费用控制能力有效增强。 公司持续开发关键零部件供应商,推动供应链稳定、安全,设备交付率保持在较高水准,设备的及时交付也为公司销售增长提供有力支撑。 2.归母净利润同比减少2.86亿元至0.86亿元(减少约16.01%至4.81%)的主要原因:(1)2024年营业收入增长44.73%下,毛利较去年增长约9.78亿元;(2)由于市场及客户对中微开发多种新设备的需求急剧增长,2024年公司显著加大研发力度,为未来业务增长打基础。2024年公司研发投入约24.50亿元,较去年增长11.88亿元(增长约94.13%),2024年研发投入占公司营业收入比例约为27.03%。2024年研发费用14.15亿元,较去年增长约5.99亿元(增长约73.32%);(3)2023年公司出售了持有的部分拓荆科技股份有限公司股票,产生税后净收益约4.06亿元,而2024年公司并无该项股权处置收益。 3.扣非后归母净利润同比增加0.89亿元至2.39亿元(增加约7.43%至20.02%)的主要原因:主要由于2024年营业收入增长44.73%下,毛利较去年增长约9.78亿元,以及2024年研发费用较去年增长约5.99亿元。 公司为客户和市场提供高科技产品和服务的同时,对标国际领先ESG水准,持续提升在环境保护、社会责任和公司治理等方面水平。 2024年公司不断升华具有中微特色的公司体制和文化,持续践行和倡导“四个十大”的企业文化。2024年公司人均年化营业收入超过350万元,在国内处于行业领先水平。
注：年度后标E表示为预测业绩，预测市盈率当前股价与机构盈利预测业绩之比。
暂无数据
鲁公网安备 37010102000507号
快速发帖 发布长文